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工作原理及流程：催化净化是典型的气固相催化反应，其实质是活性氧参与的深度氧化作用。在催化净化过程中，催化剂的作用是降低活化能，同时催化剂表面具有吸附作用，使反应物分子富集于表面提高了反应速率，加快了反应的进行。借助催化剂可使有机废气在较低的起燃温度条件下，发生无焰燃烧，并氧化分解为CO2和H2O，同时放出大量热能，从而达到去除废气中的有害物的方法。 吸附法关键适用较低浓度的煤层气气体空气污染物的净化，浓度较高的有机化学煤层气汽体在吸附净化前必须减少浓度值。吸附技术是经典、常见的有机废气处理技术，也是工业化生产中的流行技术之一。吸附法的核心技术是吸附剂、吸附机设备和加工技术、再制造材料和后处理技术。活性炭具有较大的比表面积和微孔结构，广泛应用于有机气的吸附和回收。现阶段，活性炭吸附有机废气的科学研究关键集中化在吸附平衡的预测分析、活性碳原材料的改性及其有机化合物的理化性质对活性炭吸附特性的危害。

光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时，燃烧生成产物中HCl或SO2，需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。

废气经阻火器过滤后，通过主进阀、旁通阀的同步反向切换调节进入热交换器，热交换器的热气升高一定温度后进入预热室、经过预热室的加热使废气升温到催化起燃温度（250度）然后进入催化反应床，在催化剂的活性作用下，有机废气进行氧化反应生成无害的水和二氧化碳，并放出一定的热量。反应后的高温气体再次进入热交换器，经换热后，后以较低的温度经引风机排入大气。催化燃烧是借助催化剂在低温下（200－400度）实现对有机物的完全氧化，因此，操作简单、、净化效率高，在有机废气特别是回收价值大的有机废气净化等领域应用广泛。 不同的排放场合和不同的废气，有不同的催化燃烧废气处理工艺流程。环保 催化燃烧性能特点1、用优质金属铂、钯镀在蜂窝陶瓷载体上作为催化剂、净化效率高达97－99%，设备寿命长、且可再生、气体流畅阻力小；2、设施完备：阻火除尘器、泄压孔、超温报警等保护设施全；3、预热15－30分钟全功率加热。工作时只消耗见机功率即可，当废气浓度较低时，自动间歇补偿加热；4、余热可以返回烘道用来烘干工作，降低原烘道中消耗功率；也可供工厂其它方面热能回用 催化燃烧处理注意事项:1、废气成分中，不能含有下列物质;有高粘性的油脂类。如磷、铋、砷、锑、汞、铅、锡；高浓度的粉尘；2、设备选型时，注明废气的成分、浓度及出口温度；3、设备安装场所无腐蚀性气体，并有良好的防雨措施；4、设备所需电源为：三相交流380V频率50Hz; 催化燃烧适用范围:1、用于有机溶剂的净化处理如：苯类、醇类、酯类、酚类、醚类、烷类等混合性有机废气；2、适用于漆包线、机械、电机、化工、仪表、汽车、发动机、塑料、电器等行业的有机废气净化；3、适用于各种烘道、印刷油墨、电机绝缘处理等烘干流水线等。